Página 10 dos resultados de 865 itens digitais encontrados em 0.004 segundos

Desenvolvimento de um gerador de nanopartículas e caracterização de nanopartículas de cobalto; Development of a nanoparticle generator and caracterization of cobalt nanoparticles

Landi, Gabriel Teixeira
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 26/03/2009 PT
Relevância na Pesquisa
36.99%
Neste trabalho, desenvolvemos um gerador de nanopartículas (NPs) como uma adaptação para um sistema de magnetron sputtering. Com ele, somos capazes de produzir NPs de materiais diversos e codepositá-las em matrizes dielétricas ou metálicas. A adaptação consiste em incluir uma região de alta pressão relativa de Ar no caminho do vapor atômico removido do alvo. A aglomeração ocorre termodinamicamente devido a diminuição da energia cinética após colisões com o gás. Desenvolvemos também, uma metodologia para colimar o fluxo de NPs dentro da região de alta pressão. A deposição é feita no substrato na forma de uma mancha com alguns milímetros de diâmetro e o tempo de preparação da amostra é significativamente curto. Desenvolvemos um modelo fenomenológico para explicar a condensação e a colimação do nosso sistema. Este, apesar de não sofisticado, explica bem ambos os fenômenos e consegue prever o diâmetro das nanopartículas para certas condições. Em paralelo ao desenvolvimento, produzimos e caracterizamos nanopartículas de cobalto. Da caracterização morfológica, através de microscopia eletrônica, concluímos que as NPs produzidas tem diâmetros médios de 10 nm com uma dispersão de 13 %. Através de análises de retro espalhamento Rutherford estudamos a distribuição do material sobre o substrato e observamos que este segue uma distribuição Gaussiana de espessuras. Além disso...

Produção e caracterização de guias de onda de telureto e germanato para aplicações em optoeletrônica.; Fabrication and characterization of tellurite and germanate waveguides for optoelectronics applications.

Del Cacho, Vanessa Duarte
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 29/03/2010 PT
Relevância na Pesquisa
36.96%
Este trabalho tem como objetivo a confecção e caracterização de guias de onda de GeO2-PbO e TeO2-ZnO. Os guias de onda foram produzidos a partir de filmes finos e vidros usando diferentes procedimentos. Os filmes foram produzidos usando a técnica de RF "magnetron sputtering" e foram caracterizados por meio de várias análises. Em especial, a microscopia eletrônica de varredura foi indispensável para definição dos melhores processos para a construção dos guias de onda, o maior desafio do trabalho, pois não havia na literatura trabalhos desta natureza com os materiais em questão. Os guias nos filmes foram construídos sobre substratos de silício, utilizando-se os processos convencionais de microeletrônica: limpeza química, oxidação térmica, deposição por "sputtering", litografia óptica e corrosões úmidas e por plasma. Os diversos testes realizados com estes processos permitiram encontrar as melhores condições (corrosão por plasma de SF6, resiste AZ-5214 e remoção com microstripper 2001) para a implementação de guias de onda "rib" com largura de 1 à 10 m usando profundidades de 70 nm para o guia de GeO2-PbO e de 90 nm para o guia de TeO2-ZnO. Os guias de ondas rib de PbO-GeO2 e TeO2-ZnO foram analisados opticamente quanto às perdas por propagação. Ambos apresentaram guiamento multimodo (TE) e os valores de atenuação experimentais obtidos foram de 2...

Preparação e caracterização de nanopartículas magnéticas de Sm-Co, Nd-Fe-B, Fe-Pt e Co-Pt pelo método de agregação gasosa; Production and characterization of nanoparticles of high magnetic anisotropy of Sm-Co, Nd-Fe-B, Fe-Pt e Co-Pt using the gas aggregation method

Lima, Valquiria Fernanda Gonçalves de
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 31/10/2013 PT
Relevância na Pesquisa
36.96%
Atualmente, nanopartículas (NPs) são utilizadas em todos os ramos da tecnologia. Suas promissoras aplicações envolvem entre outros, o campo dos sensores e transdutores, mídia de gravação magnética, carreadores magnéticos de drogas medicinais. Com o objetivo de produzir NPs pelo método físico, um gerador de nanopartículas foi adaptado usando um dos canhões do sistema de magnetron sputtering, baseando-se no método de agregação gasosa. Com o gerador somos capazes de produzir NPs de diversos materiais e codepositá-las em matrizes dielétricas ou metálicas. Neste trabalho apresentamos o desenvolvimento da metodologia para a produção de nanopartículas de materiais magnéticos duros, usando alvos de SmCo5, Sm2Co17, Nd2Fe17B, FePt e CoPt. Investigamos a influência dos parâmetros de deposição (pressão, fluxo de gás e potência de sputtering), tipo de substrato e a existência de buffer e/ou codeposição, na obtenção das propriedades estruturais e magnéticas desejadas para esses materiais. As NPs produzidas são analisadas magneticamente pelo VSM e SQUID, sua morfologia e tamanho por TEM e SEM, a sua estequiometria pelo RBS, e a sua estrutura cristalina por XRD, a fim de obter nano-ímãs de alta anisotropia magnética. Da caracterização morfológica...

Nanocrystalline Ga1-xMnxN films grown by reactive sputtering

Leite, D. M. G.; da Silva, L. F.; Pereira, A. L. J.; da Silva, J. H. Dias
Fonte: Elsevier B.V. Publicador: Elsevier B.V.
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: 309-314
ENG
Relevância na Pesquisa
46.64%
The growth of nanocrystalline Ga1-zMnxN (0.00 <= x <= 0.18) films grown by reactive RF-magnetron sputtering is focused here for the first time. The films were grown in a N-2 atmosphere by co-sputtering technique using a Ga target covered with small pieces of Mn onto c-GaAs (10 0), c-Si (10 0) and amorphous SiO2 substrates maintained at 500 K. Scanning electron microscopy and X-ray diffraction (XRD) experiments did not show any evidence for Mn segregation within the studied composition range. EDX measurements show that the Mn concentration is increased monotonically with the fraction of the target area covered by Mn. The XRD characterization show that the films are nanocrystalline, the crystallites having mean grain sizes in the 15-19 nm range and wurtzite structure with preferential growth orientation along the c-axis direction. The lattice parameters of alpha-GaN (a and c) increase practically linearly with the increase of Mn incorporation. The changes in the structural properties of our films due to the Mn incorporation are similar to those that occur in ferromagnetic GaMnN single-crystal films. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

Nanocrystalline GaN and GaN:H films grown by RF-magnetron sputtering

Leite, D. M G; Pereira, A. L J; Da Silva, L. F.; Dias Da Silva, J. H.
Fonte: Universidade Estadual Paulista Publicador: Universidade Estadual Paulista
Tipo: Conferência ou Objeto de Conferência Formato: 978-981
ENG
Relevância na Pesquisa
46.57%
The structural and optical properties of nanocrystalline GaN and GaN:H films grown by RF-tnagnetron sputtering are focused here. The films were grown using a Ga target and a variety of deposition parameters (N 2/H 2/Arflow rates, RF power, and substrate temperatures). Si (100) and fused silica substrates were used at relatively low temperatures (T s ≤ 420K). The main effects resulting from the deposition parameters variations on the films properties were related to the presence of hydrogen in the plasma. The X-ray diffraction analysis indicates that the grain sizes (∼15nm) and the crystallized volume fraction significantly decrease when hydrogen is present in the plasma. The optical absorption experiments indicate that the hydrogenated films have absorption edges very similar to that of GaN single crystal films reported in the literature, while the non-hydrogenated samples present larger absorption tails encroaching into the gap energies.

Development of dark Ti(C,O,N) coatings prepared by reactive sputtering

Chappé, J. M.; Vaz, F.; Cunha, L.; Moura, C.; Marco de Lucas, M. C.; Imhoff, L.; Bourgeois, S.; Pierson, J. F.
Fonte: Elsevier Publicador: Elsevier
Tipo: Artigo de Revista Científica
Publicado em 30/06/2008 ENG
Relevância na Pesquisa
46.57%
Accepted manuscript; Direct current reactive magnetron sputtering was implemented to successfully deposit dark Ti(C,O,N) thin films on silicon substrates. A titanium target was sputtered while a mixture of oxygen and nitrogen was injected into the deposition chamber, independently from an acetylene source. The deposition parameters were chosen as a function of pre-existing knowledge about sputtered Ti–O–N and Ti–C–O films. Tuning the oxygen/(nitrogen+carbon) ratio allowed obtaining a large spectrum of properties. In particular, the colour of the films was characterized by spectral reflectance spectroscopy, and expressed in the CIE 1976 L*a*b* colour space. An accurate control of the reactive gas mixture flow rate allowed obtaining intrinsic, stable and attractive dark colour for decorative applications. Surprisingly, the coatings with the lowest content of carbon and the highest content of oxygen presented the darkest tones. Composition analysis by electron probe microanalysis was done to quantify the titanium and metalloid concentrations in the films. X-ray diffraction experiments revealed the evolution of the film structure from a fcc structure for the lowest (O2+N2) flow rates to an amorphous one for the highest flow rates.; Fundação para a Ciência e Tecnologia (FCT) - SFRH/BPD/27114/2006 and PTDC/CTM/69362/2006. CRUP (Acção Integrada Luso-francesa No. F-2307). GRICES/CNRS collaboration (Proc. 4.1.1 França)

The visible and near IR photoluminescent response of nc-Si:Er thin films produced by rf sputtering

Cerqueira, M.F.; Monteiro, T.; Stepikhova, M.V.; Losurdo, M.; Soares, M.J.; Gomes, I.
Fonte: IOP Publicador: IOP
Tipo: Artigo de Revista Científica
ENG
Relevância na Pesquisa
46.57%
In this contribution we present the visible and near IR photoluminescence (PL) analysis of Er doped nanocrystalline silicon thin films produced by the rf magnetron sputtering method. Efficient photoluminescence was observed in these structures in both the visible and 1.54 µm wavelength regions. We show the strong influence of the presence of a nanocrystalline phase in films on their luminescence efficiency at 1.54 µm, which has been studied for a series of specially prepared samples with different crystallinities, i.e. percentages and sizes of Si nanocrystals. The mechanism involved in the visible photoluminescence of a highly crystalline nc-Si:H sample consisting of about 7 nm silicon nanocrystals embedded in an amorphous matrix is discussed.

High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2films: the effect of repetition frequency

Šícha, J; Heřman, D; Musil, J; Strýhal, Z; Pavlík, J
Fonte: Springer Publicador: Springer
Tipo: Artigo de Revista Científica
Publicado em 27/02/2007 EN
Relevância na Pesquisa
36.94%
The article reports on low-temperature high-rate sputtering of hydrophilic transparent TiO2thin films using dc dual magnetron (DM) sputtering in Ar + O2mixture on unheated glass substrates. The DM was operated in a bipolar asymmetric mode and was equipped with Ti(99.5) targets of 50 mm in diameter. The substrate surface temperature Tsurfmeasured by a thermostrip was less than 180 °C for all experiments. The effect of the repetition frequency frwas investigated in detail. It was found that the increase of frfrom 100 to 350 kHz leads to (a) an improvement of the efficiency of the deposition process that results in a significant increase of the deposition rate aDof sputtered TiO2films and (b) a decrease of peak pulse voltage and sustaining of the magnetron discharge at higher target power densities. It was demonstrated that several hundreds nm thick hydrophilic TiO2films can be sputtered on unheated glass substrates at aD = 80 nm/min, Tsurf < 180 °C when high value of fr = 350 kHz was used. Properties of a thin hydrophilic TiO2film deposited on a polycarbonate substrate are given.

Dynamique de croissance par plasma RF magnétron des couches minces à base d’oxyde de zinc

Maaloul, Lanoir
Fonte: Université de Montréal Publicador: Université de Montréal
Tipo: Thèse ou Mémoire numérique / Electronic Thesis or Dissertation
FR
Relevância na Pesquisa
37.13%
Le but de cette thèse était d’étudier la dynamique de croissance par pulvérisation par plasma RF magnétron des couches minces à base d’oxyde de zinc destinées à des applications électroniques, optoélectroniques et photoniques de pointe. Dans ce contexte, nous avons mis au point plusieurs diagnostics permettant de caractériser les espèces neutres et chargées dans ce type de plasmas, notamment la sonde électrostatique, la spectroscopie optique d’émission et d’absorption, ainsi que la spectrométrie de masse. Par la suite, nous avons tenté de corréler certaines caractéristiques physiques de croissance des couches de ZnO, en particulier la vitesse de dépôt, aux propriétés fondamentales du plasma. Nos résultats ont montré que l’éjection d’atomes de Zn, In et O au cours de la pulvérisation RF magnétron de cibles de Zn, ZnO et In2O3 n’influence que très peu la densité d’ions positifs (et donc la densité d’électrons en supposant la quasi-neutralité) ainsi que la fonction de distribution en énergie des électrons (populations de basse et haute énergie). Cependant, le rapport entre la densité d’atomes d’argon métastables (3P2) sur la densité électronique décroît lorsque la densité d’atomes de Zn augmente...

Atomic Force Microscopy and High-Resolution RBS Investigation of the Surface Modification of Magnetron Sputter-Etched Si(111) in an Argon Plasma at Different Pressures

Deenapanray, Prakash; Hillie, K; Demangel, Caroline; Ridgway, Mark C
Fonte: John Wiley & Sons Inc Publicador: John Wiley & Sons Inc
Tipo: Artigo de Revista Científica
Relevância na Pesquisa
46.6%
The surface morphology and metallic contamination of magnetron sputter-etched Si(111) was investigated by atomic force microscopy (AFM) and high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) as a function of Ar plasma pressure. The root-mean-square roughness (Rrms) of plasma-etched Si decreased monotonically from 36±28 angstroms at 2×10-3 mbar to 13±6 angstroms at 2×10-2 mbar. High-resolution RBS showed that metallic impurity contamination increased with increasing plasma pressure, whereas Ar atom incorporation in the near-surface region of etched Si followed the opposite pressure dependence. The barrier height of Pd Schottky contacts fabricated on the etched n-Si also decreased monotonically with decreasing Ar pressure, showing that the extent of barrier height modification was not affected by metallic impurity contamination. High-resolution RBS combined with channelling experiments showed that the topmost layers of the plasma-etched samples were disordered. The thickness of the damaged layers decreased with increasing plasma pressure.

DEFORMACIÓN ELÁSTICA RESIDUAL EN LÁMINAS DE ACERO AISI 304 RECUBIERTAS CON UNA PELÍCULA DE NITRURO DE TITANIO DEPOSITADA POR PVD-MAGNETRON SPUTTERING

COLORADO,H. A.; SALVA,H. R.; GHILARDUCCI,A. A.
Fonte: DYNA Publicador: DYNA
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/12/2009 ES
Relevância na Pesquisa
46.69%
se realizó una caracterización mediante difracción de rayos x (DRX) en láminas de acero inoxidable AISI 304 recubierto con una capa de nitruro de titanio de 3 mm de espesor, obtenida mediante deposición física de vapor (PVD-magnetron sputtering) a una temperatura de 200 ˚C. se tomaron imágenes de microscopía electrónica de barrido (MEB), microscopía óptica (MO) y microscopía de fuerza atómica (MFA) para caracterizar el sustrato, la capa y la zona cercana a la intercara. adicionalmente se determinó la deformación elástica residual asociada con el ensanchamiento de los picos de DRX.

EVALUACIÓN DE LA INFLUENCIA DEL VOLTAJE BIAS SOBRE LA RESISTENCIA A LA CORROSIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS DE Al-Nb-N

NIETO,JAHIR; CAICEDO,JULIO; AMAYA,CÉSAR; MORENO,HENRY; APERADOR,WILLIAM; TIRADO,LILIANA; BEJARANO,GILBERTO
Fonte: DYNA Publicador: DYNA
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/06/2010 ES
Relevância na Pesquisa
46.69%
Se depositaron películas delgadas de Nitruro de Niobio (NbN) y Nitruro de Niobio Aluminio (Al‑Nb‑N) sobre sustratos de silicio (100) y de acero AISI 4140 mediante un sistema multi-blanco magnetrón sputtering con r.f. (13.56 MHz), a partir de blancos de Nb y de Al de alta pureza (99.99%) en una atmósfera de Ar/N2, para diferentes voltajes de polarización del sustrato, con el fin de estudiar su efecto sobre la estructura cristalina y las propiedades electroquímicas. El acero 4140 se utiliza ampliamente en la fabricación de partes de máquinas con durezas entre 25-35 Rockwell C, pero presenta la desventaja de que su vida útil se ve limitada por su baja resistencia al desgaste y a la corrosión. El patrón de XRD muestra de manera predominante los picos de Bragg de los planos (200) de la fase FCC del AlNbN, (200) de la fase hexagonal δ'-NbN y (200) de la fase hexagonal del AlN. Mediante análisis de FTIR se pudo determinar los modos activos asociados a los enlaces Nb-N, Al-N y Al-Nb-N. Se caracterizaron muestras de acero AISI 4140 con y sin recubrimiento de AlNbN mediante Espectroscopía de Impedancia Electroquímica (EIS) y curvas de polarización Tafel. Se encontró una dependencia del voltaje de polarización sobre velocidad de corrosión para películas de Al‑Nb‑N.

Comportamiento de las herramientas de conformado con recubrimientos TiAlN crecido por Magnetrón Sputtering Tríodo

Devia-Narváez,Diana Marcela; Duque-Sánchez,Harold; Mesa,Fernando
Fonte: DYNA Publicador: DYNA
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/10/2015 ES
Relevância na Pesquisa
46.69%
Esta investigación se enfoca en el análisis tribológico de los recubrimientos de nitruro de titanio aluminio (TiAlN) depositados por la técnica Magnetrón Sputtering Tríodo, cuando se utilizan como capa protectora en herramientas de conformado. El análisis se realiza a partir de las propiedades microestructurales que influyen directamente en el comportamiento tribológico. Se observó que los mecanismos de desgaste predominantes en la superficie son la delaminación y la tribo-oxidación; se determinó un incremento en la vida útil de la herramienta siendo los recubrimientos duros una excelente alternativa en la industria metalmecánica

CrN coatings deposited by magnetron sputtering: Mechanical and tribological properties

Ruden-Muñoz,Alexander; Restrepo-Parra,Elisabeth; Sequeda,Federico
Fonte: DYNA Publicador: DYNA
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/06/2015 EN
Relevância na Pesquisa
46.69%
Mechanical and tribological properties of CrN coatings grown on steel substrates AISI 304 and AISI 4140 using the magnetron sputtering technique were analyzed. Coatings were grown at two pressures of work, 0.4 and 4.0 Pa. The films grown on AISI 304 at a pressure of work of 0.4 showed the highest hardness because they presented a larger grain size and lower roughness. For CrN synthesized at 0.4 Pa, the surface damage was lower during the tribological test. Adherence studies were also carried out, obtaining Lc1 and Lc2 for coatings produced at both pressures and on both substrates. Better adherence behavior was observed for films grown at a low pressure because these films were thicker (~890 nm).

Adherence and electrochemical behavior of calcium titanate coatings onto 304 stainless steel substrate

Esguerra-Arce,J.; Aguilar,Y.; Aperador,W.; Alba de Sánchez,N.; Bolaños Pantoja,G.; Rincón,C.
Fonte: Sociedad Mexicana de Física Publicador: Sociedad Mexicana de Física
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/06/2014 EN
Relevância na Pesquisa
46.69%
Calcium titanate has been proposed as a coating for biomedical applications but it has not been reported characterization of adhesion failure mechanisms or electrochemical properties in time. In this work have been studied these properties of a calcium titanate coating growth onto AISI 304 steel deposited by r.f. magnetron sputtering. It was found that the coating has a critical adhesive load of 6.53 ± 0.14 N. With respect to its electrochemical properties potentiodynamic polarization curves show that the calcium titanate coating provides protection to AISI 304 steel. However, EIS indicates that even though metal dissolution occur through the pores in the coating, this leads to the precipitation of salts that block pores; this precipitates layer acts like an additional barrier to the metal dissolution in the system.

Desarrollo y propiedades de recubrimientos nanocomposities lubricantes

Martínez-Martínez,D.; López-Cartes,C.; Sánchez-López,J.C.; Fernández,A.
Fonte: Sociedade Portuguesa de Materiais Publicador: Sociedade Portuguesa de Materiais
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/01/2006 ES
Relevância na Pesquisa
46.69%
El desarrollo de recubrimientos que combinen propiedades de alta dureza con bajos valores de fricción y desgaste constituye un área de investigación de notable interés por su impacto en la mejora del rendimiento de multitud de piezas y herramientas que se utilizan en operaciones industriales tales como corte, mecanizado, etc. En este trabajo se presentan los resultados conseguidos a partir de nuevos sistemas nanoestructurados lubricantes formados por nanocristales de una fase dura (nc-TiC) que se integran dentro de una masa de material amorfo de bajo coeficiente de fricción (a-C). La síntesis se ha realizado mediante la técnica de "magnetron sputtering" a partir de blancos de Ti y grafito. La caracterización microestructural y química de los recubrimientos se ha llevado a cabo por microscopía electrónica de transmisión (TEM), difracción de rayos X (XRD), espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS), microscopía de fuerzas atómicas (AFM) y espectroscopía de pérdida de energía de electrones (EELS). Las propiedades tribológicas se han estudiado a temperatura y humedad ambientales utilizando un tribómetro pin-on-disk con acero como antagonista a presiones de contacto de ~1 GPa. Controlando las condiciones de síntesis se pueden conseguir rangos de fricción (0...

Structural and morphological properties of Bi(X)Si(Y)O(Z) thin films prepared via unbalanced magnetron sputtering

Orozco Hernandez,Giovany; Olaya Florez,Jhon Jairo
Fonte: Universidad Simón Bolívar; ; Publicador: Universidad Simón Bolívar; ;
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/12/2015 EN
Relevância na Pesquisa
46.69%
Bismuth-silicon-oxygen-based thin films were prepared via an unbalanced magnetron sputtering system in a reactive atmosphere with a mixture of argon and oxygen at room temperature. It is clear that this technique is highly environmentally friendly and does not produce toxic products or gases during or after the process. These films exhibited high homogeneity and constant thickness around 200 nm. The structural properties of the films were analyzed by means of X-ray diffraction, which mainly showed the presence of bismuth and bismuth oxide. As for the morphological properties, con-focal microscopy measurements showed good homogeneity over the surface as well as low average roughness, which indicates good thickness uniformity.

Deposition and characterization of duplex treated coating system applied on hot work steel AISI H13

Bejarano Gaitan,Gilberto; Gomez Botero,Maryory; Arroyave Franco,Mauricio
Fonte: Universidad Simón Bolívar; ; Publicador: Universidad Simón Bolívar; ;
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/12/2012 EN
Relevância na Pesquisa
46.69%
AISI H13 steel is widely used for extrusion moulds and other hot work tools fabrication, due to its high toughness, strength and hardness around 56 HRC (Rockwell C). However, this steel possesses a relatively low wear resistance, which reduces its life time under high loading conditions. The aim of this work was to enhance the wear resistance of the steel H13 using the following surface treatments: austenitizing + quenching + tempering (further called “tempering”), tempering and bath nitriding, tempering and coated with chromium nitride (CrN), tempering + bath nitriding + coated with CrN (further called “Duplex coating”). The properties of the treated samples were compared with each other in dependence of the made surface treatment. The coatings were deposited using the r.f. balanced magnetron sputtering deposition technique. The total thickness of the coatings was maintained at 5 μm, while the thickness of the nitrided zone was approximately 140 μm. The microstructure and the crystalline phase composition were investigated by Scanning Electron Microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD) technique, respectively. The hardness and the adhesion of the coatings were determined by micro indentation measurements and the Rockwell indentation test...

Structural characterization, optical response, and corrosion resistance of bismuth coatings

Alfonso,José E; Olaya,Jhon J; Ortiz,María F
Fonte: Universidad Simón Bolívar; ; Publicador: Universidad Simón Bolívar; ;
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/06/2014 EN
Relevância na Pesquisa
46.69%
We present the results obtained from the deposition of nanostructure bismuth coatings through DC pulsed unbalanced magnetron sputtering. The Bi coatings were deposited simultaneously on common glass, silicon, and Ti6AL4V substrates in order to evaluate the optical properties, morphology, and microstructure as a function of the pulsed frequency deposition, and to establish the relationship between these properties and corrosion resistance. The microstructure was evaluated via X-ray diffraction (XRD), and the morphology of the coatings was evaluated through scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). Optical properties were characterized through absorbance and transmittance spectra. The XRD analysis indicated that the coatings are polycrystalline. The SEM micrographs showed that the coatings are grown as droplets form. AFM revealed roughness values from 20.0 to 28.8 nm. Finally, from the optical measurements, it was possible to establish the band-gap energy of the Bi coatings.

Estudio de las propiedades mecánicas, tribologícas y superficiales de recubrimientos duros basados en titanio

Holguín,Gustavo A; Cano,Michell F; Ruden,Alexander; González,Juan M; Jurado,Paola A; Sequeda,Federico
Fonte: Universidad Simón Bolívar; ; Publicador: Universidad Simón Bolívar; ;
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/12/2013 ES
Relevância na Pesquisa
46.69%
Se depositaron películas a base de titanio (Ti/S, TiN/S, Ti/TiN/S, S: sustrato) por DC Magnetrón Sputtering, sobre acero 316L, evaluando las propiedades superficiales, mecánicas, adhesión interfacial y el comportamiento tribológico de los recubrimientos. La estructura cristalina del material fue analizada por medio de XRD, determinando estructura cristalina FCC. La dureza se incrementa con la aplicación de la capa de TiN (~17 GPa), pero altos esfuerzos intrínsecos y mayor fragilidad, hacen que posea menor adhesión (~12 N). Las capas metálicas, poseen comportamiento predominantemente plástico, con menores durezas (~7 GPa), pero mayor adhesión (~19N). Las pruebas de desgaste se realizaron por medio de Bola en Disco (BOD), usando como contrapartes bolas de Acero inoxidable 440 (SS440) y Alúmina (Al2O3) (6mm de diámetro), a condiciones de 1N de carga y 10cm/s velocidad. Se realizaron análisis morfológicos y químicos sobre la pista de desgaste y superficie de las contrapartes utilizando perfilometría y SEM/EDS. Mayores coeficientes de desgaste fueron observados en las capas de Ti, debido a baja resistencia a la deformación plástica y al incremento de la abrasión. Al incluir la capa de TiN, se incrementa la capacidad de carga...