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Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados.; Electrical resistivity anisotropy in nanostructured thin films.

Teixeira, Fernanda de Sá
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 18/05/2007 PT
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O objetivo principal deste trabalho foi desenvolver um dispositivo de filme fino com anisotropia de resistividade elétrica. A idéia foi usar um efeito quântico presente em filmes muito finos de materiais condutores ou semicondutores com morfologia anisotrópica na superfície. A morfologia foi um perfil unidirecional quase-senoidal. As resistividades foram determinadas medindo-se as resistências elétricas destes materiais em direções ortogonais, levando-se em conta a geometria da amostra e suas dimensões. O material condutor usado foi Polimetilmetacrilato (PMMA) com ouro implantado na superfície. A profundidade média de implantação foi 2,7 nm. Na fabricação do dispositivo foi utilizada micro e nanolitografia, caracterização por Microscopia Eletrônica de Varredura e Microscopia de Força Atômica e implantação de ouro por MePIIID (Metal Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition).; The main purpose of this work was to develop a thin film device with electrical anisotropic resistivity. The idea was to use a quantum effect which is present in very thin films of conductor or semiconductor materials with anisotropic morphology on the surface. The morphology was a sinusoidal-like unidirectional profile. The resistivities were determined measuring the electrical resistances of theses materials in orthogonal directions...

Manipulação transversal de feixes atômicos para possível uso em litografia atômica; Transverse manipulation of atomic beams with potential use in atomic litography

Alves, Marcos Veríssimo
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 30/10/1997 PT
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Desde o desenvolvimento de técnicas para controlar o movimento atômico usando a força de pressão de radiação, muitas aplicações tem sido sugeridas e implementadas. Entre estas, o aprisionamento atômico e o desenvolvimento de estruturas espaciais com átomos frios merece atenção especial devido à sua potencial aplicação em depósitos superficiais como litografia. Realizamos, neste trabalho, um estudo sobre feixes atômicos e sua desaceleração e compressão espacial. Realizamos também estudos numéricos sobre a formação de estruturas em anéis em feixes atômicos, verificando ser factível, e estudando também a compressão destas estruturas espaciais, com vistas a possíveis aplicações em nanolitografia atômica.; From the very beginning of the development of atomic motion control techniques using the radiation pressure force, a variety of applications have been suggested and implemented. Of all these, atomic trapping techniques and the development of spatial structures using cold atoms deserves special attention due to its potential application to surface deposition such as lithography. In the present work, we perform a study on atomic beams and their deceleration and spatial compression. We also perform numerical studies and present experimental observation of the realization of spatial ring structures in atomic beams...

Corrosão por plasma para tecnologias CMOS e microssistemas

Claudia Reyes Betanzo
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 06/03/2003 PT
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Esta tese apresenta os resultados do desenvolvimento e da otimização de uma tecnologia própria na área de fabricação de dispositivos CMOS e Microssistemas, realizados no Centro de Componentes Semicondutores da UNICAMP, pretendendo desenvolver processos em uma das técnicas mais críticas da microfabricação: corrosão de materiais por plasmas. Neste trabalho foram desenvolvidos processos de corrosão dos seguintes materiais: nitreto de silício (SiNx), óxido de silício (SiO2) e silício policristalino implantado com fósforo, usados na fabricação de dispositivos CMOS, além de silício monocristalino usado na fabricação de Microssistemas. Cada processo de corrosão foi desenvolvido em base às características específicas requeridas do processo de fabricação tais como a taxa de corrosão, seletividade, anisotropia e qualidade da superfície. Para os processos de corrosão foram usados dois equipamentos diferentes: um reator para corrosão iônica reativa (RIE) e um reator para corrosão por ressonância ciclotrônica de elétrons (ECR). Para analisar os mecanismos de interação plasma-superfície no reator RIE, foi realizada uma caracterização do plasma através de dois modelos teóricos e por técnica de espectroscopia óptica (actinometria). Com isto...

A obra de Ângelo Agostini e a litografia como arte na luta pela abolição da escravatura

Barata, Mário
Fonte: Ciência & Trópico Publicador: Ciência & Trópico
Tipo: info:eu-repo/semantics/article; info:eu-repo/semantics/publishedVersion; Artigo Avaliado pelos Pares Formato: application/pdf
Publicado em 09/06/2011 POR
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RESUMO A história da criação estética mostra o lugar do desenhista e caricaturista Ângelo Agostini, fundador da Revista Ilustrada, e de suas litografias, como também o reconhecimento dos líderes do movimento antiescravista. Nessas litografias, vê-se a importância da arte de Agostini tanto de seu valor tonal e efeitos estéticos, quanto de seu empenho narrativo e crítico e arte política através de “charges” feitas com naturalismo mostrando cenas ocorridas. ABSTRACT Ângelo Agostini’s work and litography as art in the struggle for the Abolition of slavery. v. 16, n. 1, p. 19-27, jan./jun. 1988. The History of esthetics creation shows the place of Ângelo Agostini. The designer and caricaturist, was the founder of Revista Ilustrada, and its litographies, but also the recognizement of the leaders of the anti-slavery movement. It is seen in these litographies the importance of Agostini’s art as much as its tonal value and esthetical effects as by its narrative and critical performance and political art through “charges” done with naturalism about facts of the past time. RÉSUMÉ L’oeuvre d’Ângelo Agostine et la lithographie comme art dans la lutte pour l‘abolition de l’esclavage. v. 16, n. 1, p.19-27...

Litografia artística brasileira : Lotus Lobo e Darel Valença Lins; Brazilian prints - litography : Lotus Lobo and Darel Valença Lins

Vitor Hugo Gorino
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 15/08/2014 PT
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O presente trabalho analisa a produção litográfica de Darel Valença Lins (1924 -) e Lotus Lobo (1948 - ) das décadas de 1970 e 1980. Estes artistas desempenharam papeis de destaque na produção e no fomento da litografia artística no Brasil a partir de contextos e referenciais distintos, no Rio de Janeiro e em Minas Gerais, respectivamente. Suas produções autorais apresentam novas direções ao passo que incorporam imagens apropriadas em suas gravuras e, ao mesmo tempo trabalham com novas soluções processuais para as impressões, de forma que suas obras enquadrem-se dentro do grupo de artistas que investigam a gravura como meio expressivo ambivalente, caracterizado pela reprodução e pela multiplicação da imagem. Suas litografias se apresentam de tal forma, que reajustam e recompõem as imagens apropriadas recodificando-as, gerando uma nova construção na qual o registro original não mais as representa, mas também não se apaga por completo, semelhantemente ao que fazem os processos cognitivos de memória.; This work analyses the artwork of Darel Valença Lins (1924 -) and Lotus Lobo (1948- ) through the 1970's and 1980's. These artists played top roles in the artistic application and teaching of the lithographic printing process in Brazil...

Multishelled Gold Nanowires

Bilalbegovic, G.
Fonte: Universidade Cornell Publicador: Universidade Cornell
Tipo: Artigo de Revista Científica
Publicado em 30/06/1999
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The current miniaturization of electronic devices raises many questions about the properties of various materials at nanometre-scales. Recent molecular dynamics computer simulations have shown that small finite nanowires of gold exist as multishelled structures of lasting stability. These classical simulations are based on a well-tested embedded atom potential. Molecular dynamics simulation studies of metallic nanowires should help in developing methods for their fabrication, such as electron-beam litography and scanning tunneling microscopy.; Comment: 5 figures in jpg and gif formats

X-Ray Propagation in Tapered Waveguides: Simulation and Optimization

Panknin, Sebastian; Hartmann, Alexander K.; Salditt, Tim
Fonte: Universidade Cornell Publicador: Universidade Cornell
Tipo: Artigo de Revista Científica
Publicado em 08/01/2008
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We use the parabolic wave equation to study the propagation of x-rays in tapered waveguides by numercial simulation and optimization. The goal of the study is to elucidate how beam concentration can be best achieved in x-ray optical nanostructures. Such optimized waveguides can e.g. be used to investigate single biomolecules. Here, we compare tapering geometries, which can be parametrized by linear and third-order (Bezier-type) functions and can be fabricated using standard e-beam litography units. These geometries can be described in two and four-dimensional parameter spaces, respectively. In both geometries, we observe a rugged structure of the optimization problem's ``gain landscape''. Thus, the optimization of x-ray nanostructures in general will be a highly nontrivial optimization problem.; Comment: 10 pages, 3 figures