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Estudo de Litografia por Feixe de Elétrons para a Produção de Padrões Sobre Substratos de Eletroestruturas; Study of electron beam lithografhy for patterns production on semiconductor heterostructrucres substrata.

Silva, Marcelo de Assumpcao Pereira da
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 17/12/1996 PT
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37.651604%
Este trabalho trata do estudo das condições para a produção de padrões em escala nano e micrométricas, utilizando o processo de litografia eletrônica. A parte inicial refere-se ao estudo do elétron-resiste de PMMA incluindo a preparação da solução, o recobrimento do substrato e a secagem. Em seguida, são apresentados estudos sobre o funcionamento do sistema de litografia por feixe de elétrons em detalhe. São tratados problemas com o resiste, o substrato e a interação com a amostra. São apresentados os aspectos mais importantes dos substratos utilizados, sendo dado um enfoque a heteroestruturas semicondutoras com gás de elétrons bidimensionais. As condições para revelação do resiste e das etapas de processamento para que seja feita a replicação para o substrato do padrão gerado no resiste são também abordadas. Diversos estudos foram realizados para mostrar a influência de alguns efeitos comuns na litografia como a influência da espessura do filme de resiste e os efeitos de proximidade. Também trata da produção de padrões sobre substratos diversos como GaAs, VIDRO, ALUMINA e PRATA. A última etapa estuda a utilização de um resiste híbrido PMMA-Sílica como um método de conformação cerâmica. Finalmente é apresentado um estudo relativo a produção de diversos padrões diferentes sobre heteroestruturas semicondutoras de AlGaAs/GaAs.; The work describe the conditions for pattern production at nano and micrometric scale using the electronic lithographic process. In the first part many types of lithographic technics are compared and the aim why the electron beam lithographic nanostructured production was chosen. Detailed results about operation with the lithographic system and some problems related to electron resist...

Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada.; Development of three-dimensional lithographic process for application in integrated micro-optics.

Catelli, Ricardo Tardelli
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 21/07/2010 PT
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27.447634%
O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de proximidade a, b e h para se modelar e controlar os efeitos do espalhamento dos elétrons no resiste e no substrato, e se altera o processamento convencional do SU-8 para se obter um processo com baixo contraste. A determinação dos parâmetros do efeito de proximidade para o sistema de escrita direta e amostra SU-8 / Si é feita experimentalmente e por simulação de Monte Carlo. Particularmente, verifica-se a dependência dos mesmos com a profundidade do resiste. Primeiramente utilizando o software PROXY, obtêm-se a, b e h da observação de padrões de teste revelados. Chega-se a 4m para o parâmetro () que mede o retroespalhamento dos elétrons pelo substrato e 0,7 para a relação (h) entre a intensidade destes com aquela dos elétrons diretamente espalhados pelo resiste (alcance dado por a). Ainda, com esses dados, estima-se o diâmetro do feixe do microscópio eletrônico de varredura a partir da equação de aproximação de espalhamento direto para pequenos ângulos (a = 128nm na superfície do resiste) e se determina a resolução lateral do processo (a = 800nm na interface resiste/ substrato...

Gravação e caracterização de nanoestruturas bidimensionais em relevo

Elso Luiz Rigon
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 10/03/2003 PT
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27.447634%
Nesta tese foram desenvolvidos processos para gravação de nanoestruturas bidimensionais em relevo, utilizando-se exposições holográficas e litografia. São descritas as condições experimentais para a gravação de máscaras em fotorresina com diferentes perfis, assim como para a litografia do padrão bidimensional em três diferentes materiais: alumínio, níquel e carbono amorfo hidrogenado. Para a litografia foram utilizadas técnicas de lift off, evaporação térmica, eletrodeposição seletiva, deposição química na fase vapor assistida por plasma (PECVD), e corrosão por plasma reativo (RIE). Foram estudadas três propriedades ópticas apresentadas pelas nanoestruturas bidimensionais fabricadas em materiais dielétricos e metálicos: efeito anti-refletor, existência de bandas proibidas de propagação para fótons, e efeito de transmitância extraordinária. Além do estudo teórico, foram realizadas medidas experimentais do efeito anti-refletor em estruturas gravadas em fotorresina sobre vidro, e da transmitância extraordinária de nanofuros em filmes metálicos; This thesis describes the recording of two dimensional surface-relief nano structures, using double holographic exposures and lithography. The experimental conditions for recording photoresist masks are described...

Cristais fotônicos 2 D : projeto e fabricação; 2D photonic crystals : design and fabrication

Fabiola Azanha Quiñonez
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 23/02/2006 PT
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27.447634%
Nesta tese foi utilizado um programa baseado em elementos finitos para projetar cristais fotônicos bidimensionais, assim como foram desenvolvidos processos de litografia holográfica para gravação destas estruturas fotônicas em filmes de carbono amorfo hidrogenado, depositados sobre substratos de vidro. O projeto dos parâmetros geométricos das estruturas que apresentam um gap fotônico, numa dada região de interesse do espectro óptico, foi feito através do cálculo dos diagramas de bandas das estruturas, levando-se em consideração as dimensões e formas que possam ser fabricadas utilizando a técnica de litografia holográfica. Para gravação dos cristais fotônicos bidimensionais, com simetrias cúbica e hexagonal, foi utilizada a técnica de superposições sucessivas de padrões, gerados pela interferência de duas ondas planas (exposições holográficas), associadas à litografia do filme de carbono por plasma reativo (RIE ? Reactive Ion Etching); In this thesis, we employed a software based on finite element method to design two-dimensional photonic crystals, as well as we developed a holographic lithography process to record these photonic structures in amorphous carbon films, coated on glass substrates. In order to present a photonic band gap in a desired region of the optical spectrum...

Estudo, desenvolvimento e obtenção de peças plasticas tridimensionais atraves da litografia termica, utilizando laser de CO2

Mucio Leite de Barros
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 08/07/1993 PT
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37.56607%
Este trabalho de tese apresenta uma nova técnica denominada litografia térmica 3D, destinada ao estudo e confecção de peças tridimensionais de plástico com geometria desejada, através da interação entre o laser de C02 (10,6pm) e resinas liquidas termosensiveis de alta viscosidade, do tipo epóxi e poliester insaturado. Nesta técnica é utilizada o laser de C02 com potência da ordem de 20 watt na confecção de peças (anéis), com resolução da ordem de 0,20 mm e 0,10 mm respectivamente para as resina epóxi e poliester. Para a obtenção das peças foi desenvolvido um modelo de interação laser-resina e usadas cinco formulações quimicas, duas das quais foram utilizadas na confecção das peças tridimensionais, com a utilização do processo de litografia térmica 3D, enquanto que as outras três foram viáveis apenas para a confecção de peças com uma única camada. Convencionalmente, o processo de litografia a laser ou estereolitografia tem sido desenvolvido com a utilização de resinas fotosensiveis com a aplicação do laser operando na região espectral do ultra violeta (325 nm), portanto, em região espectral distante da que é utilizada neste trabalho; This work presents a new technique called thermal-3DLithography...

Projeto e fabricação de nao-estruturas por litografa interferometrica; Design and fabrication of nano-structures by interforometric lithography

Edson Jose de Carvalho
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 30/05/2008 PT
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27.56607%
Neste trabalho foi desenvolvida a técnica de Litografia Interferométrica para a gravação de nano-estruturas periódicas em relevo, uni e bidimensionais, sobre substratos de vidro e de silício. Em particular, o trabalho se concentrou em duas frentes: no estudo no perfil das estruturas gravadas em fotorresina, através da superposição de padrões interferométricos, e na integração desta técnica com as demais tecnologias usuais de processamento do Si para microeletrônica. A partir dos padrões luminosos, gerados pela superposição de franjas de interferência, o perfil em relevo das estruturas gravadas em fotorresina foi simulado para estudar a influência de alguns dos parâmetros do processo de exposição e revelação. Para a associação desta técnica de litografia interferométrica com as demais tecnologias de processamento de Si foi necessário desenvolver um processo para gravação sobre substratos de Si. Para isto foi preciso reduzir o efeito das ondas estacionárias na litografia. A solução encontrada foi crescer termicamente uma camada de SiO2, com espessura apropriada sobre o substrato de Si, antes da aplicação da fotorresina. Para demonstrar o potencial dos processos desenvolvidos para fabricação de componentes e dispositivos baseados em nano-estruturas...

Fabricação e caracterização de nanopeneiras poliméricas; Fabricationan characterization of polimeric nanosieves

Luis Enrique Gutierrez Rivera
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 10/08/2009 PT
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27.56607%
Nano-Peneiras são dispositivos de microfiltração que se diferenciam das membranas filtrantes por apresentarem uma distribuição homogênea de poros e baixa rugosidade na sua superfície. Estas características as tornam uma melhor alternativa para processos de separação que requerem alta seletividade na indústria de biotecnologia, fármacos e química. Por outro lado estas peneiras quando atingem poros com dimensões de alguns centos de nanômetros e estão feitas de materiais biocompativeis e biodegradáveis, são utilizadas em Micro-dispositivos Bio Eletro Mecânicos, BIO-MEMS. Entre as aplicações mais relevantes de peneiras poliméricas dentro dos BIO-MEMS podemos mencionar os bio-sensores e as biocapsulas para sistemas de liberação de drogas através de implantes dentro do corpo. Neste trabalho desenvolvemos um processo de fabricação de Peneiras Poliméricas Nanométricas utilizando a associação de técnicas de litografia interferométrica, litografia óptica, e micro-moldagem. As Peneiras foram fabricadas utilizando um sistema de litografia interferométrica UV, que foi construído durante esta tese. Foi estudada a homogeneidade dos poros das peneiras fabricadas através da analises estadísticas de imagens digitais de microscopia eletrônica. Por outro lado fizemos analises de seletividade da filtração utilizando partículas esféricas de poliestireno de diferentes tamanhos. Os resultados da analises estadística da morfologia dos poros mostraram uma alta qualidade na distribuição e na homogeneidade dos poros das peneiras que foram formados através da litografia interferométrica. Por outro lado os resultados das medidas de filtração de partículas apresentaram uma excelente seletividade na separação de partículas por tamanho...

Microfabricação de arcabouços tridimensionais para engenharia de tecidos pelo metodo de litografia macia

Claudio Roberto Cutrim Carvalho
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 31/07/2003 PT
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37.447634%
Litografia macia tem sido usado recentemente para criar micro e nano estruturas bi e tridimensionais para cultura de células e engenharia de tecidos usando PDMS (poli dimetil-siloxano). PDMS é um elastômero biocompatíveí, opticamente transparente, não tóxica, e barato que pode ser moldado com alta fidelidade. Fabricou-se um arranjo de estruturas quadradas com espaçamento regular e secção transversal variando 100µmx100 µm, 150µmx 150µm, 200µmx200µm, 50µmx250µm com 50 µm de altura e uma linha separando cada uma dessas estruturas de 30µm. A proposta deste arranjo foi implementar a técnica de litografia macia para construção de dispositivos para aplicação em engenharia de tecidos, tais como: estudar o comportamento celular, adesão e espalhamento celular. Fabricaram-se também membranas porosas com diâmetro de 100 µm com altura de 35µm e espaçamento entre os poros de 35um e alguns canais microfluídicos. Estes arcabouços tridimensionais fornecerão o suporte físico para a fixação celular e reconstrução tecidual; Soft lithography and microtransfer techniques have been used to create two and three dimensional micro and nanostructures for cells culture and tissue engineering, using PDMS (polydimethylsiloxane). PDMS is a biocompatible elastomer...

Desenvolvimento de processos de obtenção nanofios de silício para dispositivos MOS 3D utilizando feixe de íons focalizados e litografia por feixe de elétrons; Development of process for obtaining silicon nanowires for 3D MOS devices using focused ion beam and electron beam lithography

Marcos Vinicius Puydinger dos Santos
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 18/12/2013 PT
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37.272803%
Neste trabalho é apresentado o desenvolvimento do processo de obtenção de nanofios de silício (SiNW) para aplicações em dispositivos MOS tridimensionais utilizando as técnicas de Feixe Íons Focalizados com íons de Gálio (GaFIB) e Litografia por Feixe de Elétrons (EBL). O processo completo de fabricação foi desenvolvido para a obtenção de transistores sem junção baseados em nanofios (junctionless nanowire transistors, JNT), escolhidos devido à facilidade de processamento – comparativamente a outros dispositivos, como FinFETs – e à ausência de efeitos de canal curto e perfuração MOS (punchthrough). Lâminas de tecnologia SOI (Silicon on Insulator) foram utilizadas como substrato. GaFIB/SEM – um sistema de duplo feixe acoplado a um microscópio eletrônico de varredura -, com resolução nominal de feixe iônico de 20 nm, foi utilizado para a definição dos nanofios de silício com dopagem local por íons de Gálio (p+ - SiNW) e deposição de dielétrico de porta de SiO2 e eletrodos de fonte, dreno e porta de Platina. Para deposição dos eletrodos metálicos e do dielétrico de porta foi utilizado feixe de elétrons disponível no SEM de modo a evitar implantação iônica extra e evitar o processo de sputtering dos nanofios de silício. As dimensões do comprimento (LFin) e altura (HFin) do nanofio...

Litografia de nanoesferas para obtenção de moldes secundários poliméricos eletrodepositados em sílicio

Jasinski, Éverton Fabian
Fonte: Florianópolis, SC Publicador: Florianópolis, SC
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: 1 v.| il., tabs., grafs.
POR
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37.272803%
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas, Programa de Pós-Graduação em Física, Florianópolis, 2007; Este trabalho introduz uma nova técnica de nanoestruturação de materiais baseado em litografia de nanoesferas, que permite a eletrodeposição, em silício, de redes ordenadas de esferas, usando moldes secundários de polipirrol. Embora a viabilidade da técnica já tivesse sido demonstrada para uso em substratos metálicos, foi necessário adaptá-la aos propósitos do grupo, que se utiliza de substratos semicondutores visando a caracterização das propriedades de transporte em nanoestruturas magnéticas. Foi desenvolvida uma metodologia original baseada em spin-coating com confinamento hidrofóbico, que garante a produção de máscaras coloidais de uma ou duas camadas, em grandes áreas e com espessura homogênea. Desenvolveu-se, também, um método de monitoramento da qualidade das máscaras produzidas, que pode ser realizado, in loco e rotineiramente, com o uso de um microscópio ótico. Demonstrou-se que a melhor rota de fabricação envolve o uso de substratos de silício tipo-n, sobre o qual constrói-se a rede de PPy/Cl por fotoeletrooxidação. Verificou-se que a eficiência do processo de polimerização gira em torno de 70% e que a matriz coloidal de poliestireno atua como catalisadora do processo de polimerização...

Eletrodeposição de redes porosas ordenadas de cobalto e NiFe via litografia de nanoesferas

Spada, Edna Regina
Fonte: Florianopolis, SC Publicador: Florianopolis, SC
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: 148 f.| il., tabs., grafs.
POR
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37.272803%
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.; Este trabalho visou à fabricação de nanoestruturas ordenadas magnéticas, e a caracterização de suas propriedades magnetorresistivas. Redes porosas ordenadas de cobalto e de NiFe foram fabricadas por eletrodeposição associada ao uso de litografia de nanoesferas, diretamente em substratos de silício, sem o uso de camada semente. Para tanto, máscaras coloidais bidimensionais foram produzidas por spin-coating, com homogeneidade de espessura em áreas da ordem de cm2, usando esferas monodispersas de poliestireno com diâmetros de 165, 496 e 600 nm. A etapa de fabricação das nanoestruturas foi precedida de uma caracterização estrutural e magnética de filmes finos compactos de cobalto e de FeNi eletrodepositados.

Redução de desperdícios na secção de litografia de uma empresa de cartonagem

Passos, Carla Augusta Freitas
Fonte: Universidade do Minho Publicador: Universidade do Minho
Tipo: Trabalho de Conclusão de Curso
Publicado em //2013 POR
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37.447634%
Dissertação de mestrado integrado em Engenharia e Gestão Industrial; O presente trabalho insere-se no âmbito do projeto de dissertação desenvolvido no 5º ano do Mestrado Integrado em Engenharia e Gestão Industrial. Esta dissertação, desenvolvida em contexto industrial, é suportada no pensamento lean e suas ferramentas, como VSM, SMED, 5S’s, gestão visual e normalização dos processos. A metodologia de investigação aplicada nesta dissertação foi a Action-Research, tendo-se inicialmente efetuado uma revisão bibliográfica sobre Lean e suas ferramentas e uma análise ao sistema produtivo atual, em particular à unidade produtiva da litografia. O diagnóstico da cadeia de valor baseou-se em dois tipos de caixas, Packit e Monobloco, responsáveis por 62% das vendas da empresa no período que compreende o último semestre de 2012 e o primeiro semestre de 2013. Com base nesse estudo identificaram-se diversos desperdícios, nomeadamente elevados tempos de setup e de percurso, elevados níveis de stock e produtos não conformes. A dissertação focou-se primariamente nos elevados tempos de setup, particularmente na secção de impressão, uma vez que esta secção possuía as máquinas que mais contribuíam para este desperdício. Após o diagnóstico da cadeia de valor da litografia...

Processamento de moldes micro- e nanoestruturados para o crescimento de nanofios por meio de litografia de varredura por sonda

Barbosa, Luiz Gustavo de Moura da Silva
Fonte: Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul; Porto Alegre Publicador: Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul; Porto Alegre
Tipo: Dissertação de Mestrado
PORTUGUêS
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37.272803%
Neste trabalho, foram estabelecidas rotinas reprodutíveis para o processamento de padrões regulares em escala submicrométrica em filmes finos poliméricos utilizando a litografia de varredura por sonda (um dos modos de operação de um microscópio de varredura por sonda – SPM). Foram utilizadas sondas de silício para realizar as matrizes de furos no modo de aragem dinâmica (dynamic plowing). Após, a ponta foi trocada para a visualização das matrizes no modo de contato intermitente. As rotinas de padronização foram aplicadas em filmes finos de PMMA de diferentes pesos moleculares e espessuras, depositados por spin coating, otimizando estes dois parâmetros para a formação de máscaras na forma de grade de furos. O diâmetro e a profundidade dos furos e também a altura e largura das deformações aos seus arredores foram investigados em função da força de interação e do tempo de ação da sonda, bem como da espessura dos filmes e peso molecular dos polímeros. Uma vez otimizados os procedimentos básicos, as rotinas desenvolvidas foram aplicadas no processamento de moldes para o crescimento de arranjos regulares de nanofios de ZnO.; In this work, were established reproducible routines for the processing of regular patterns in sub micrometric scale in polymers thin films by used of the scanning probe lithography (one mode of operation of a scanning probe microscope - SPM). Were used silicon probes to perform the matrices of holes in dynamic plowing mode. After...

Litografia artística brasileira : Lotus Lobo e Darel Valença Lins; Brazilian prints - litography : Lotus Lobo and Darel Valença Lins

Vitor Hugo Gorino
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 15/08/2014 PT
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37.272803%
O presente trabalho analisa a produção litográfica de Darel Valença Lins (1924 -) e Lotus Lobo (1948 - ) das décadas de 1970 e 1980. Estes artistas desempenharam papeis de destaque na produção e no fomento da litografia artística no Brasil a partir de contextos e referenciais distintos, no Rio de Janeiro e em Minas Gerais, respectivamente. Suas produções autorais apresentam novas direções ao passo que incorporam imagens apropriadas em suas gravuras e, ao mesmo tempo trabalham com novas soluções processuais para as impressões, de forma que suas obras enquadrem-se dentro do grupo de artistas que investigam a gravura como meio expressivo ambivalente, caracterizado pela reprodução e pela multiplicação da imagem. Suas litografias se apresentam de tal forma, que reajustam e recompõem as imagens apropriadas recodificando-as, gerando uma nova construção na qual o registro original não mais as representa, mas também não se apaga por completo, semelhantemente ao que fazem os processos cognitivos de memória.; This work analyses the artwork of Darel Valença Lins (1924 -) and Lotus Lobo (1948- ) through the 1970's and 1980's. These artists played top roles in the artistic application and teaching of the lithographic printing process in Brazil...

Litografia por oxidação anódica seletiva de nanodispositivos através de microscopia de força atômica; Local anodic oxidation (LAO) lithography of nanodevices by means of atomic force microscopy

Pablo Roberto Fernandez Siles
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 16/03/2006 PT
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27.766892%
A Oxidação anódica local em substratos tanto semicondutores quanto metálicos através do Microscópio de Força Atômica tem surgido ao longo dos últimos anos como uma das técnicas de litografia mais confiáveis e versáteis para a fabricação de dispositivos e estruturas em escala nanométrica. Embora aspectos fundamentais, como a dinâmica envolvida no processo de oxidação anódica em relação a diferentes parâmetros de controle, é ainda objeto de estudo. Pretende-se neste trabalho realizar uma caracterização de diferentes processos de litografia por AFM, com o objetivo de obter um melhor entendimento da cinética envolvida na oxidação assim como também determinar e quantificar a influência dos principais parâmetros de controle envolvidos no processo. Através de um processo de oxidação dinâmico, onde a ponta do microscópio encontra-se em movimento sobre a superfície da amostra durante o processo de oxidação, são determinadas as taxas de formação das estruturas de óxido em relação a parâmetros como a tensão aplicada na interface ponta-amostra, a umidade e a velocidade de varredura do microscópio. Finalmente, implementa-se a técnica para a fabricação de dispositivos em pequena escala. A construção de dispositivos passa por duas etapas de litografia...

Plan estratégico de mercadeo para la microempresa Litografía Fernández

Fonte: Universidad Autónoma de Occidente; Mercadeo y Negocios Internacionales Publicador: Universidad Autónoma de Occidente; Mercadeo y Negocios Internacionales
Tipo: Bachelor Thesis; Pasantía Formato: PDF
SPA
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37.651604%
Litografía FERNANDEZ, es una empresa del sub-sector Artes Gráficas; fue fundada en el año 1963 por su actual Gerente el Señor Jorge Enrique Fernández quien con base en sus estudios técnicos y su experiencia en empresas del subsector salud decidió materializar la idea de tener un negocio que satisficiera necesidades de productos tales como elaboración de tarjetas y folletos comerciales. En el transcurso del tiempo ha estado creciendo especialmente con base en relaciones con clientes pertenecientes a la salud, tales como médicos y laboratorios. A su vez a nivel interno se fueron creando los diferentes cargos existentes actualmente en la organización; hoy en día se tiene una empresa que ofrece una buena calidad de sus productos basada en su trayectoria y cumplimiento del mercado a nivel local y regional. Litografía Fernández se encuentra en el negocio de las artes graficas, buscando satisfacer las necesidades de personas naturales y jurídicas, con la prestación del servicio de impresión de todo tipo de material publicitario. Con la implementación del plan estratégico de mercadeo, Litografía Fernández busca mantener y consolidar su competitividad en el sector de las artes graficas, de la ciudad de Cali, contemplando un crecimiento en ventas del 15% en el 2009 frente al año 2008 (ver tabla 7). Litografía Fernández espera consolidar la competitividad de sus líneas actuales de productos y a su vez incursionar en los mercados de empaques y etiquetas...

Nanolitografía y metrología de alta precisión en el ultravioleta extremo; EUV nanolithography and high precision metrology

Capeluto, María Gabriela
Fonte: Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires Publicador: Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires
Tipo: info:eu-repo/semantics/doctoralThesis; tesis doctoral; info:eu-repo/semantics/publishedVersion Formato: application/pdf
Publicado em //2009 SPA
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27.841006%
En esta Tesis se discute el empleo de un láser de Ar ionizado, que emite a 46.9nm, en dos aplicaciones de gran importancia tecnológica. La primera es el desarrollo de un sistema de litografía compacto capaz de producir nano-estructuras con dimensiones típicas por debajo de 100nm. La segunda consiste en el diseño de un interferómetro por corrimiento de fase que potencialmente permitirá alcanzar una resolución mayor que los instrumentos actualmente disponibles Las experiencias de fotolitografía realizadas muestran que es posible llevar a cabo procesos de nanofabricación con un dispositivo compacto y más versátil que los ya desarrollados para luz sincrotrón. Se analizaron varias configuraciones experimentales para implementar litografía de proximidad, litografía de proyección y litografía interferométrica con dos y cuatro haces. El experimento de litografía de proximidad fue realizado como prueba de principios y es la primera demostración de que el PMMA puede ser activado con los fotones provenientes del láser de 46.9nm. En este caso el detalle con tamaño más chico que se logró grabar en la muestra fue de 120nm. Un arreglo de agujeros de 360nm de diámetro y 20nm de profundidad, fue impreso utilizando la técnica de litografía de proyección. La técnica de litografía interferométrica se llevó a cabo...

Nanolitografía y metrología de alta precisión en el ultravioleta extremo; EUV nanolithography and high precision metrology

Capeluto, María Gabriela
Fonte: Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires Publicador: Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires
Tipo: Tesis Doctoral Formato: text; pdf
Publicado em //2009 ESPAñOL
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27.841006%
En esta Tesis se discute el empleo de un láser de Ar ionizado, que emite a 46.9nm, en dos aplicaciones de gran importancia tecnológica. La primera es el desarrollo de un sistema de litografía compacto capaz de producir nano-estructuras con dimensiones típicas por debajo de 100nm. La segunda consiste en el diseño de un interferómetro por corrimiento de fase que potencialmente permitirá alcanzar una resolución mayor que los instrumentos actualmente disponibles Las experiencias de fotolitografía realizadas muestran que es posible llevar a cabo procesos de nanofabricación con un dispositivo compacto y más versátil que los ya desarrollados para luz sincrotrón. Se analizaron varias configuraciones experimentales para implementar litografía de proximidad, litografía de proyección y litografía interferométrica con dos y cuatro haces. El experimento de litografía de proximidad fue realizado como prueba de principios y es la primera demostración de que el PMMA puede ser activado con los fotones provenientes del láser de 46.9nm. En este caso el detalle con tamaño más chico que se logró grabar en la muestra fue de 120nm. Un arreglo de agujeros de 360nm de diámetro y 20nm de profundidad, fue impreso utilizando la técnica de litografía de proyección. La técnica de litografía interferométrica se llevó a cabo...

Album enciclopédico-pintoresco de los industriales : colección de dibujos geométricos ... /

Rigalt i Farriols, Lluís,
Fonte: Barcelona : Litografía de la Unión de Francisco Campañá, Publicador: Barcelona : Litografía de la Unión de Francisco Campañá,
Tipo: Text; Llibres electrònics; info:eu-repo/semantics/book Formato: application/pdf; application/pdf; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image/jpeg; image
Publicado em /1859/1857 SPA
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37.272803%
Estampes litogràfiques editades a Barcelona per la Litografía de la Unión de Francisco Campañá; Inventors: Lluís Rigalt i Farriols, Andrés Bosch y Manés, José Folch y Brossa, José Fontseré y Mestre, M. Garriga y Roca, Gerónimo Granell y Mundet, Francisco Daniel Molina, F. Padró, Francisco de Paula del Villar i Carmona, Pedro Prat i Francisco Tenas; Litògrafs: Josep Amills, N. Arau, E. Buxó, J. Calado, T.D., Àngel Fatjó i Bartrà, L. Furnó, J. Giraud, J. Mª Gombau, L. de Mas, J. Pujol, J. Serra, R. Tarragó; Forma part del projecte: Biblioteca Digital d'Història de l'Art Hispànic (UAB); Tractat en format d’àlbum escrit per Lluís Rigalt (1814-1894), sense pretensions artístiques sinó comercials, on es descriuen diverses arts industrials relacionades amb la construcció, jardineria, mobiliari, fundició, joieria, ceràmica, etc… Obra il·lustrada amb litografies segons dibuix del mateix Lluís Rigalt, realitzades per un gran nombre de litògrafs; Tratado en formato de álbum escrito por Lluís Rigalt (1814-1894), sin pretensiones artísticas sino comerciales, donde se describen diversas artes industriales relacionadas con la construcción, la jardinería, el mobiliario, la fundición, la joyería, la cerámica...

La litografia a Catalunya de 1815 a 1855

Vélez, Pilar
Fonte: Universidade Autônoma de Barcelona Publicador: Universidade Autônoma de Barcelona
Tipo: Article; info:eu-repo/semantics/article; info:eu-repo/semantics/publishedVersion Formato: application/pdf
Publicado em //1997 CAT
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La primera litografia realitzada a l'Estat espanyol fou obra de Josep March, que la féu a Barcelona el 1815. Després, el 1820, l'impressor Antoni Brusi obrí el primer taller litogràfic de caire privat i comercial de tot l'Estat. Noms com ara Montfort, Ferran, Planella, Estivill i algun altre assajaren la nova tècnica entre 1825 i 1840 aproximadament. El 1839, Francesc Xavier Parcerisa inicià l'obra magna de la il•lustració litogràfica: els onze volums amb més de sis-centes làmines dels Recuerdos y Bellezas de España, editats fins al 1872. Però el veritable desenvolupament tècnic de la litografia tingué com a protagonista Eusebi Planas (1833-97), que, format en els millors tallers de París, assolí una elevada qualitat artística comparable a la dels seus col•legues francesos.; The first lithograph to be made in Spain was done by Josep March in Barcelona in 1815. Later, in 1820, the printer Antoni Brusi opened the first private, commercial lithograph workshop in the country. Artist such as Montfort, Ferran, Planella or Estivill tried out the new technique between 1825 and 1840. In 1839 Francesc Xavier Parcerisa embarked on the magnum opus of lithograph illustration: the eleven volumes, containing over six hundred plates...