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Contribuições ao processo de eletrodeposição do gálio sobre cobre e estudo das interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH na ausência e presença de íons acrilato; Contributions to the electrodeposition process of gallium on copper and study of the interphases Cu/NaOH and Pt/NaOH in the absence and in the presence of acrylate ions

Santos, Celia Aparecida Lino dos
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 28/08/2003 PT
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37.531934%
Interfases Cu/NaOH e Pt/NaOH foram estudadas a 25 oC, a várias concentrações de NaOH, 1,0 x10-3 mol.L-1 a 5,0 mol.L-1, empregando técnicas eletroquímicas e não eletroquímicas na ausência e presença do íon acrilato. Os estudos tiveram como objetivo obter informações sobre a dupla camada elétrica (DCE) e sobre a reação H2O/H2 empregando cobre como substrato, para um melhor entendimento da eletrodeposição do gálio. Os estudos foram precedidos de ensaios tecnológicos em que as condições experimentais e a natureza dos sistemas a serem estudados foram estabelecidas. Estudos por voltametria cíclica provaram que em NaOH 5,0 mol.L-1 os processos de oxidação e redução do cobre são qualitativamente semelhantes aos observados em NaOH 0,1 mol.L-1, mas a velocidade destes processos se torna uma ordem de grandeza maior em NaOH 5,0 mol.L-1. Ensaios por voltametria linear indicaram que a redução dos óxidos na superfície e a menor pureza do cobre (99,99% comparado a 99,999 %) elevam a velocidade da reação H2O/H2. Estudos cronoamperométricos mostraram a viabilidade do emprego desta técnica nos estudos da DCE da interfase Cu/NaOH 5,0 mol.L-1 na região de potencial em que os processos faradaicos são da ordem de 20 microA.cm-2 em condições estacionárias. As interfases Cu/NaOH foram comparadas com as interfases Pt/NaOH e os resultados obtidos por cronoamperometria...

Auto-organização interfacial durante a eletrodeposição de ligas Cu-Sn em regime oscilatório; Interfacial self-organization during electrodeposition of Cu-Sn alloys under oscillatory condition

Joanni, Edson
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 10/01/2007 PT
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37.531934%
A emergência de estruturas espaço-temporais auto-organizadas em sistemas químicos abertos e afastados do estado de equilíbrio termodinâmico resulta da cooperação entre os processos de reação e transporte de espécies ativas e tem se tornado uma área de intensa atividade nos últimos anos. Auto-organização dinâmica na interface sólido/líquido durante a eletrodeposição de Cu-Sn em regime oscilatório é o tema central do presente trabalho. O sistema estudado consistiu da co-eletrodeposição de cobre e estanho sobre eletrodo de ouro policristalino na presença do surfactante Triton X-100. Instabilidades temporais na forma de oscilações de corrente sob controle potenciostático resultantes da presença de uma região de resistência diferencial negativa no perfil voltamétrico têm sido experimentalmente observadas nesse sistema. Acompanhando essas oscilações de corrente há uma deposição intercalada em multicamadas de diferentes composições (basicamente Cu e CuSn), espessuras e morfologias. Especificamente foram estudadas neste trabalho a variedade dinâmica (i.e., o formato e escala de tempo das oscilações de corrente) e a estrutura e composição dos eletrodepósitos formados. Esse estudo tomou como base o mapeamento das regiões de instabilidade no plano (resistência externa...

Aplicação de complexos de metais de transição coordenados a típicos aditivos orgânicos de banhos eletrolíticos em eletrodeposição binária de metais; Application of transition metal complexes coordinated with typical organic aditive from electrolitic bath for binary metal electrodeposition

Watanabe, Rogério Haruo
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 16/07/2008 PT
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37.654446%
O objetivo principal deste trabalho é aplicar complexos de cobre(II), níquel(II), zinco(II) e nióbio(V) como fontes de metais em banhos de eletrodeposição. Os íons metálicos foram coordenados aos ligantes íon oxalato, íon citrato, etilenodiamina (EDA) ou tetraetilenopentamina (TEPA), os quais são aditivos orgânicos típicos em banhos de eletrodeposição. Os complexos foram caracterizados por análise elementar, espectroscopias nas regiões do infravermelho e ultravioleta-visível e voltametria cíclica. Foram realizadas eletrólises em presença de dois complexos de coordenação em ausência de quantias adicionais de aditivos, usando aço 1010 como substrato a pH = 4.5 (H2SO4/Na2SO4), resultando em depósitos com dois elementos metálicos. Os depósitos apresentaram aspectos morfológicos com boas qualidades e sem falhas. Em adição, os depósitos foram analisados por EDX, reflectância difusa e espectroscopia de raio-X e também foram realizadas medidas de curvas de polarização. Os depósitos obtidos a partir dos complexos gerados ex-situ mostraram morfologias melhores do que depósitos obtidos de soluções preparadas com os sais dos metais na presença dos aditivos, mediante as mesmas condições de trabalho. É sugerido que os metais de partida...

Eletrodeposição de filmes finos e materiais nanoestruturados das ligas magnéticas cobalto-níquel e cobalto-níquel-molibdênio; Electrodeposition of CoNi and CoNiMo magnetic alloys thin films and nanowires

Esteves, Marcos Cramer
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 08/05/2009 PT
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37.654446%
Este trabalho trata do estudo da eletrodeposição de filmes finos e nanofios magnéticos compostos de cobalto, níquel e molibdênio. Foi avaliada a influência da composição química das soluções utilizadas nas propriedades do material obtido. O uso de uma célula de Hull com eletrodo cilíndrico rotativo permitiu também que fosse estudado com mais detalhe o mecanismo de eletrodeposição da liga CoNiMo. Os filmes finos magnéticos de CoNi e CoNiMo foram eletrodepositados galvanostaticamente utilizando soluções contento citrato ou glicina como aditivo. Composição, microestrutura, morfologia e propriedades magnéticas dos depósitos foram analisados e a influência da composição das soluções e das densidades de corrente aplicadas foi avaliada. Soluções contendo citrato e/ou baixo pH não resultaram em filmes com boas propriedades. O uso de glicina e pH 7 resultou em filmes amorfos e com melhores propriedades magnéticas: magnetização de saturação de 1,2 T e coercividade de 50 Oe. Com o uso da célula de Hull rotativa foi possível avaliar como variava a composição da liga e as densidades de corrente parciais de cada um dos elementos. Notou-se que a deposição de Ni era menor quanto maior a concentração de Co+2 na solução e que o aumento na concentração de glicina favorece a deposição de Co e Mo e prejudica a deposição de Ni. Além disso...

Aplicação de complexos de CuII, NiII, ZnII e NbV com ligantes carboxilatos em banhos de eletrodeposição; Application of CuII, NiII, ZnII and NbV complexes with carboxilates ligands for electroplating baths

Silva, Mariana Beatriz dos Reis
Fonte: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP Publicador: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: application/pdf
Publicado em 23/02/2010 PT
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37.74293%
Complexos de coordenação de Cu(II), Ni(II), Zn(II) e Nb(V) foram obtidos com os íons acetato, citrato e oxalato como ligantes (complexos ex-situ) para serem aplicados em banhos de eletrodeposição. O objetivo é usar estes complexos como fontes de metais sem adição de aditivos os quais são os ligantes que estão coordenados. Como estudos de referência, foram investigados banhos de eletrodeposição contendo sais de sulfatos dos íons metálicos na presença de ligantes nas razões metal:ligante de 10:1 e 1:5; assim, complexos de coordenações similares podem ser gerados em solução (complexos in-situ). Os complexos ex-situ foram analisados por análise elementar, espectroscopias nas regiões do infravermelho e ultravioleta-visível e voltametria cíclica (em Pt). As eletrólises foram realizadas em substrato de aço 1020 com um ou dois complexos metálicos presentes no banho. Banhos de eletrodeposição de nióbio usando como substrato aço 1020 coberto com Cu e/ou Zn foram bem sucedidos. Os depósitos foram analisados por microscopia eletrônica de varredura (MEV), espectroscopia de dispersão de raios X (EDX), reflectância difusa, espectroscopia de difração de raios X (DRX) e por curvas de polarização anódica (estudos de corrosão). Os banhos com complexos in-situ 10:1 fomeceram depósitos com aspectos morfológicos ruins em relação aos depósitos obtidos de banhos com complexos in-situ 1:5 e ex-situ. As morfologias dos depósitos obtidos dos banhos com acetato foram dendríticos e com baixa aderência. Os depósitos dos banhos com complexos citrato e oxalato foram lisos...

Estudo das propriedades magnéticas e estruturais de filmes ultrafinos de Fe, Co e Ni/Au(111) produzidos por eletrodeposição

Gundel, Andre
Fonte: Universidade Federal do Rio Grande do Sul Publicador: Universidade Federal do Rio Grande do Sul
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
POR
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37.351082%
Neste trabalho foram estudadas as propriedades magnéticas e estruturais de filmes ultrafinos de Fe, Co e Ni produzidos por eletrodeposição sobre substratos de Au(111). Os estágios iniciais de crescimento dos filmes foram estudados por técnicas de caracterização “in-situ”. Uma nova técnica de caracterização do estado magnético de filmes ultrafinos eletrodepositados (EC-AGFM) foi utilizada, mostrando-se uma poderosa ferramenta para o estudo das propriedades magnéticas dos filmes. Outras técnicas, como STM “in-situ”, PMOKE “in-situ”, EXAFS, XRD, RBS foram utilizadas. A análise dos dados revelaram resultados diferentes para os filmes de Fe e Co/Au(111), em comparação aos filmes de Ni/Au(111). Enquanto a anisotropia magnética perpendicular (PMA) foi observada para os filmes de Fe e Co/Au(111), não foi observada para os filmes de Ni/Au(111). Os resultados são interpretados em termos das contribuições para a anisotropia magnética dos filmes. No caso do níquel, a degradação de suas propriedades magnéticas são atribuídas à incorporação de hidrogênio durante a deposição. Os resultados das análises magnética e estrutural são correlacionados a fim de compreender o comportamento das propriedades observadas. Os resultados são comparados aos obtidos por técnicas em vácuo.

Eletrodeposição de Co sobre n-Si(100) e caracterização dos depósitos formados

Manhabosco, Taíse Matte
Fonte: Universidade Federal do Rio Grande do Sul Publicador: Universidade Federal do Rio Grande do Sul
Tipo: Dissertação Formato: application/pdf
POR
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37.654446%
O presente trabalho tem como objetivo a eletrodeposição de cobalto, metal que apresenta caráter magnético, sobre um substrato de silício (100) tipo “n”, tendo em vista que a eletrodeposição em um substrato semicondutor apresenta diferenças se comparada à eletrodeposição em um substrato metálico (condutor). Investigou-se a possível influência do nível de dopagem do semicondutor nas características do sistema eletroquímico e nos depósitos de cobalto. Para isto foram utilizadas amostras de Si (100) tipo “n”, de duas diferentes resistividades: <0,005Wcm e 50-100Wcm. Os depósitos de cobalto foram obtidos a partir de duas diferentes técnicas: potenciostática e galvanostática. Foram realizadas curvas de voltametria cíclica em solução contendo íon cobalto e em solução isenta do mesmo. Soluções de duas diferentes concentrações, 1mM e 10mM de CoSO4, foram utilizadas nos experimentos. Sacarina foi adicionada eventualmente à solução com o objetivo de refinar o tamanho dos núcleos de cobalto. A cinética de nucleação foi estudada utilizando os modelos teóricos para nucleação instantânea e progressiva propostos por Scharifker e Hills Tanto as curvas de voltametria cíclica quanto as cronopotenciométricas e cronoamperométricas apresentaram comportamento diferenciado quando da utilização de um eletrodo semicondutor com as duas diferentes resistividades. Através da utilização de um eletrodo metálico foi possível verificar as diferenças de comportamento existentes entre um eletrodo condutor e um semicondutor. Os depósitos de cobalto foram morfologicamente caracterizados por microscopia de força atômica e microscopia eletrônica de varredura. A superfície hidrogenada do silício...

Avaliação da eletrodialise no tratamento de efluentes de processos de eletrodeposição de níquel

Benvenuti, Tatiane
Fonte: Universidade Federal do Rio Grande do Sul Publicador: Universidade Federal do Rio Grande do Sul
Tipo: Dissertação Formato: application/pdf
POR
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37.531934%
Os processos galvânicos estão entre as principais atividades indutriais que descartam metais no ambiente. Os efluentes gerados contém alta carga de sais e metais que precisam ser tratados, para a recuperação de produtos químicos e água, possibilitando a preservação de recursos. Neste trabalho, será apresentado o tratamento de efluentes de processos de eletrodeposição de níquel brilhante por eletrodiálise (ED) que permite concentrar e extrair níquel e seus sais. Iniciado como estudo de caso solicitado por uma empresa italiana, fabricante de plantas de ED, devido a problemas na operação de um equipamento utilizado no tratamento de efluentes de niquelação de uma empresa do estado de São Paulo, foram avaliados quinze sistemas de eletrodiálise e diálise em células de cinco compartimentos que são separados por quatro membranas com área de 16 cm2, para o tratamento de soluções reais, efluentes de um processo de eletrodeposição de níquel, e sintéticas, baseadas na composição de banhos comerciais (variando em função da presença ou ausência de componentes inorgânicos ou orgânicos). Foram testados dois tipos de membrana e duas configurações de sistema, sob as mesmas condições experimentais de densidade de corrente...

Avaliação do revestimento de conversão à base de zircônio e tanino sobre aço zincado por eletrodeposição

Costa, Josiane Soares
Fonte: Universidade Federal do Rio Grande do Sul Publicador: Universidade Federal do Rio Grande do Sul
Tipo: Dissertação Formato: application/pdf
POR
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37.351082%
O pré-tratamento de superfícies metálicas é utilizado para aumentar o desempenho contra a corrosão. Muitas peças, de diversos tamanhos, são cromatizadas, resultando em uma grande quantidade de efluentes e resíduos sólidos gerados desde o desengraxe inicial até a lavagem final. O cromo hexavalente é tóxico e cancerígeno. Isso vai contra a grande preocupação mundial da atualidade: sustentabilidade e redução do impacto ambiental. Novos processos sustentáveis têm sido estudados para reduzir os impactos ambientais. Portanto, este trabalho apresenta o desempenho de revestimentos nanocerâmicos à base de zircônio sobre substratos de zinco obtidos por eletrodeposição em meio ácido e meio alcalino. Um revestimento de nanocerâmico e posterior aplicação de revestimento tanino como potencial corante amarelo, foi avaliado, em relação aos revestimentos de cromato (CrIII e CrVI). O revestimento “nano Zr” é obtido através de solução de conversão à base de ácido hexafluorzircônio, formando camadas nanoestruturadas de óxido de zircônio na superfície. A utilização do revestimento à base de Zr melhora a resistência à corrosão do aço zincado. A adição de um tanino possibilita a visualização do revestimento “nano Zr” sobre as peças zincadas...

Codepositos de ZnCo : estudo do processo de sua eletrodeposição por corrente pulsada

Celia Regina Tomachuk dosSantos
Fonte: Biblioteca Digital da Unicamp Publicador: Biblioteca Digital da Unicamp
Tipo: Tese de Doutorado Formato: application/pdf
Publicado em 23/04/1998 PT
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37.654446%
As ligas de zinco vêm substituindo as camadas de zinco puro em aplicações que requerem alta resistência à corrosão. Particularmente, a liga ZnCo vem ganhando espaço principalmente nas indústrias européias (automobilísticas, eletro-eletrônica e de construção) e mais recentemente nos Estados Unidos por apresentarem propriedades superiores à do zinco puro. Neste trabalho investigou-se a codeposição anômala do zinco e trabalhou-se com o processo de eletrodeposição por corrente pulsada para obtenção de codepósitos de ZnCo a partir de um banho à base de cloretos. Analisou-se a influência dos parâmetros da eletrodeposição sobre a morfologia e qualidade dos depósitos obtidos, visando sua utilização como revestimento anti-corrosivo sobre aço. Posteriormente, os resultados foram comparados com codepósitos de espessuras semelhantes, obtidos por corrente contínua. A técnica de eletrodeposição por corrente pulsada permitiu obter codepósitos com concentração de cobalto na faixa de 0,8% a 1,0%, o que permite serem cromatizados e, também foi possível manter constante o teor de cobalto no depósito numa ampla faixa de densidade de corrente, possibilitando dessa forma ser aplicada em peças mais complexas, com formas irregulares...

Eletrodeposição de níquel em silício tipo-n monocristalino

Fiori, Márcio Antônio
Fonte: Florianópolis, SC Publicador: Florianópolis, SC
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: 106 f.| il., tabs.
POR
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37.74293%
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas.; O principal objetivo deste trabalho é obter filmes finos de níquel sobre substratos de silício tipo-n (100) monocristalino através da técnica de eletrodeposição potenciostática e caracterizá-los através de diferentes técnicas de análises físicas.A configuração experimental adotada para a eletrodeposição desses filmes consiste de uma célula eletroquímica com três eletrodos, uma solução eletrolítica, utilizada como fonte de íons metálicos, e um potenciostato. Para a obtenção de uma solução favorável a produção de um bom depósito, ou seja, filmes com granulometria regular, baixa rugosidade, boa aderência ao substrato e aspecto metálico foram testadas diferentes soluções contendo sulfato de níquel (NiSO4), o eletrólito de suporte sulfato de sódio (Na2SO4) e o aditivo ácido bórico (H3BO3). As soluções foram estudadas através de técnicas fisico-químicas como Voltametria Cíclica (CV) e transientes de corrente (ixt).Os filmes finos preparados a partir de soluções contendo alta concentração de sulfato de níquel (1.0M NiSO4) e a adição de sulfato de sódio (1.0M Na2SO4) e ácido bórico (0.5M H3BO3) apresentaram os melhores resultados do ponto de vista de morfologia superficial e...

Eletrodeposição de nanoestruturas metálicas em silício nanocristalino

Munford, Maximiliano Luis
Fonte: Florianópolis, SC Publicador: Florianópolis, SC
Tipo: Tese de Doutorado Formato: 218 f.| il., grafs.
POR
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37.654446%
Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.; O objetivo deste trabalho é a obtenção de nanoestruturas metálicas em superfícies de silício monocristalino empregando métodos eletroquímicos. Foram exploradas concomitantemente duas frentes de pesquisa: (1) preparação de superfícies de silício com padrão de organização nanoscópico; e (2) utilização destas como substrato para a eletrodeposição de nanoestruturas metálicas. Foram analisadas as condições necessárias para a obtenção de superfícies hidrogenadas de silício H-Si(111) com terraços monoatômicos livres de defeitos (pites), preparadas a partir do desbaste químico de lâminas Si(111) em solução de NH4F. A influência dos diferentes parâmetros de preparação foi investigada com medidas eletroquímicas e observações AFM ex-situ. Para obter superfícies H-Si(111) sem pites, foi demonstrado que são indispensáveis tanto a remoção do oxigênio diluído na solução de desbaste quanto a presença da face rugosa da lâmina durante o processo de corrosão. Verificou-se que esta age como um anodo de sacrifício na amostra, polarizando catodicamente a superfície de interesse...

Eletrodeposição de Fe em Si monocristalino

Zoldan, Vinicius Claudio
Fonte: Florianópolis, SC Publicador: Florianópolis, SC
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: viii, 62 f.| il., grafs.
POR
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37.531934%
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.; O objetivo principal deste trabalho é o desenvolvimento de um procedimento experimental de eletrodeposição potenciostática de filmes finos e aglomerados de ferro sobre superfícies de lâminas de silício monocristalino tipo-n visando a obtenção de estruturas com potencial aplicação na fabricação de dispositivos como sensores magnetorresistivos. Na busca por um sistema estável para medidas magnetorresistivas em depósitos com espessuras nanométricas foram estudados eletrólitos contendo sulfato de ferro (FeSO4), ácido bórico (H3BO3) e ácido sulfúrico (H2SO4). Os parâmetros de eletrodeposição, como concentrações dos reagentes, potencial de deposição, pH e temperatura do eletrólito, foram otimizados para a obtenção de depósitos com boa aderência ao substrato de silício, revestimento uniforme e aspecto metálico. Através da técnica de voltametria observamos os potenciais de eletrodo que promovem as reações de oxidação e redução. Os transientes de corrente obtidos durante a preparação das amostras foram comparados com modelos teóricos para melhor compreender o processo de crescimento dos depósitos de Fe. A morfologia das superfícies foi observada através de imagens de microscopia de força atômica (AFM). As propriedades elétricas foram analisadas a partir de medidas da resistividade dos filmes finos e por curvas IxV das interfaces metal-semicondutor...

Implementação de um protótipo AFM/STM para eletrodeposição localizada

Souza, Daniel Henrique Camargo de
Fonte: Universidade Federal de Santa Catarina Publicador: Universidade Federal de Santa Catarina
Tipo: Dissertação de Mestrado Formato: [107] p.| il., graf., tabs.
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37.531934%
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica, Florianópolis, 2010; O estado da arte em eletrônica, direciona os estudos para o desenvolvimento de técnicas de nanofabricação de dispositivos, sistemas e nanoestruturas eletrônicas. Assim sendo, Neste trabalho temos exposto o estudo da eletrodeposição de tetrafluoroborato em substrato de ouro por intermédio de um protótipo de AFM/STM. Construído e desenvolvido para atender as necessidades de caracterização desse estudo. Sendo que, como eletrólito usou-se o líquido iônico a temperatura ambiente (LI) tetrafluoroborato de 1-metil-3-butilimidazólio. Tal estudo contribui para o entendimento do processo de eletrodeposição via LI assitido com AFM/STM. Sendo um promissor método de nanofabricação de dispositivos eletrônicos, dopagem local, ou em processos secundários da fabricação de circuitos integrados. O desenvolvimento de um protótipo de AFM/STM, ferramenta crucial para quem deseja trabalhar em nanoescala e nanomanipulação, aparece no entendimento do controle das variáveis do sistema, sendo imprescindível para o domínio em tal nível de averiguação e enriquecedor para o entendimento em nanotecnologia.

Desenvolvimento e aplicação de líquidos iônicos na extração e eletrodeposição de metais

Mendes, Tiago Correia
Fonte: Universidade Federal de Santa Catarina Publicador: Universidade Federal de Santa Catarina
Tipo: Tese de Doutorado Formato: 167 p.| il., grafs., tabs.
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37.531934%
Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Química, Florianópolis, 2013.; O processo de extração e recuperação de metais é atualmente dominado pelo uso de solventes utilizando o meio aquoso. Muitos compostos como óxidos metálicos são insolúveis em solventes moleculares e geralmente são solúveis apenas na presença de ácidos, álcalis e outros compostos de natureza tóxica e agressiva. Os chamados solventes eutéticos extremos foram recentemente anunciados como líquidos iônicos capazes de dissolver uma série de sais e óxidos metálicos, podendo também ser aplicados na extração da celulose, eletropolimento e eletrodeposição de metais. Além disso, solventes desta natureza são constituídos por sais biodegradáveis, diminuindo o impacto ao meio ambiente. Neste contexto, este trabalho consiste no desenvolvimento de solventes específicos, mais precisamente, uma modificação dos solventes eutéticos. Dois solventes foram elaborados, estes foram então aplicados na extração e eletrodeposição de metais através de soluções sintéticas e de um resíduo sólido da indústria mineradora. Os resultados são promissores, os solventes sintetizados permitem um meio iônico capaz de dissolver uma gama de metais...

Eletrodeposição catódica como método de remediação de lixiviados de aterros sanitários

Mestrinho, Eunice Isabel Cacilhas
Fonte: Universidade de Évora Publicador: Universidade de Évora
Tipo: Dissertação de Mestrado
POR
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37.654446%
Neste trabalho, foi estudada a eletrodeposição de cádmio a partir de soluções aquosas com a concentração de 0.001M do metal, tendo em vista a sua remoção por via eletroquímica usando como elétrodo de trabalho o aço inoxidável. Os depósitos formados foram estudados por técnicas de voltametria linear e cíclica, difração de raio X, microscopia eletrónica de varrimento e análise por EDS. A cronoamperometria foi a técnica usada para avaliar a cinética do processo de deposição. Avaliou-se a natureza do eletrólito tendo sido estudados os meios cloreto, sulfato e nitrato e a mistura destes, o pH e o potencial aplicado. O processo de eletrodeposição de cádmio mostrou ser complexo, sendo influenciado diferentemente pelos meios, indicando a ocorrência de processos simultâneos como espécies adsorvidas, a evolução do hidrogénio e a redução do nitrato. O estudo de uma amostra de lixiviado dopada com a mesma concentração em cádmio permitiu constatar que o processo de eletrodeposição do metal é fortemente inibido pelo nitrato e carga orgânica presente; ### CATHODIC ELECTRODEPOSITION AS A METHOD FOR REMEDIATION LANDFILL LEACHATE Abstract: In this work, the electrodeposition of cadmium from aqueous solutions with a concentration of 0.001M of the metal was studied...

Tratamento para obtenção de TaC em superfície de grafite. Parte II: eletrodeposição em meio de fluoretos fundidos

Izário Fº,H. J.; Vernilli Jr.,F.; Pinto,D. V. B. S.; Baccan,N.; Sartori,A. F.
Fonte: Associação Brasileira de Cerâmica Publicador: Associação Brasileira de Cerâmica
Tipo: Artigo de Revista Científica Formato: text/html
Publicado em 01/09/2001 PT
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37.531934%
Este trabalho apresenta a técnica de eletrodeposição de tântalo em meio de fluoretos fundidos, seguida de tratamento térmico para formação do carbeto de tântalo, como uma alternativa de pré-tratamento para tubos de grafite utilizados em determinações analíticas de espectrometria de absorção atômica em forno de grafite. Os experimentos de eletrodeposição foram executados utilizando-se como solução eletrolítica a mistura eutética LiF-NaF-KF com adição de 15% em massa de K2TaF7. Os ânodos de tântalo foram provenientes de sucata comercial de tântalo, o cátodo foi o próprio tubo de grafite a ser revestido. O revestimento de tântalo foi obtido com alta eficiência de corrente a 750 ° C, em densidade de corrente catódica de 20 mA.cm-2 e tempo de eletrólise de 120 min., sob atmosfera controlada de argônio. O tratamento térmico realizado em atmosfera de argônio, possibilitou a formação de uma perfeita camada de carbeto de tântalo, confirmada através de análise de difratometria de raios X. O depósito, analisado por microscopia eletrônica de varredura (M.E.V.), mostrou-se liso, aderente ao substrato, sem porosidades, incrustações ou microtrincas.

Eletrodeposição de chumbo sobre Carbono Vítreo, em sistema Ácido, Alcalino e com a influência do Etileno Glicol

Gentíl da Silva, Gilvaldo; Borges Diniz, Flamarion (Orientador)
Fonte: Universidade Federal de Pernambuco Publicador: Universidade Federal de Pernambuco
Tipo: Outros
PT_BR
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A eletrodeposição de chumbo, sobre carbono vítreo, em meios ácidos (HBF4) e alcalinos (KOH) e sobre a influência do etileno glicol, em concentração variada, foi estudada através de voltametria cíclica e cronoamperometria. Os resultados experimentais mostram claramente que a eletrodeposição de chumbo, sobre o carbono vítreo é um processo controlado por nucleação com um mecanismo de crescimento em três dimensões (3D) A voltametria cíclica permitiu uma avaliação das sobretensões envolvidas no processo. A maior sobretensão para eletrodeposição em HBF4 foi obtida com 130 mM de etileno glicol. Já em meio alcalino, a maior sobretensão foi encontrada em etileno glicol 91 mM. A cronoamperometria foi analisada dentro do formalismo desenvolvido por Scharifker e Hills, possibilitando caracterizar o processo de nucleação como sendo progressivo ou instantâneo. Na ausência de etileno glicol, tanto em meio ácido, quanto em meio alcalino foi observada uma nucleação progressiva. Por outro lado, na presença de etileno glicol, a nucleação em meio alcalino passou a ser instantânea. Informação estrutural sobre a eletrodeposição do chumbo foi obtida através de microscopia óptica para determinar a morfologia de superfície...

Eletrodeposição de fosfato de cálcio em titânio após o tratamento superficial com ondas ultrassônicas

Oliveira, Marize Varella De; Ribeiro, Alexandre Antunes; Balestra, Roseli Marins
Fonte: Instituto Nacional de Tecnologia Publicador: Instituto Nacional de Tecnologia
Tipo: apresentação
PT_BR
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Os implantes de titânio revestidos com fosfatos de cálcio tornam-se bioativos, o que acelera a osteointegração, garantindo o sucesso do implante e um menor tempo de recuperação dos pacientes. Assim, neste trabalho utilizou-se a técnica de eletrodeposição por ser um processo de baixo custo e rápido. As amostras foram tratadas quimicamente utilizando ondas ultrassônicas. O tratamento superficial foi consolidado com um tratamento térmico a 600°C por 1 hora. A concentração utilizada no eletrólito foi de 25 mmol de íons cálcio e 10 mmol de HPO4 2-, na temperatura de 60°C e com agitação. As áreas de exposições das amostras foram constantes e os tempos de eletrodeposição foram de 10, 20 e 30 minutos. Após a eletrodeposição as amostras foram colocadas no forno a 450°C durante uma hora, em ar, sendo caracterizada por microscopia eletrônica de varredura, energia dispersiva de raios X e difração de raios X com ângulo rasante; 20º CBECIMAT - Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais; 04 a 08 de Novembro de 2012, Joinville, SC, Brasil

Estudo da Eletrodeposição de Cobre em Meio Alcalino com uso de Corrente Pulsada; Study of Copper Electrodeposition in Alkaline Medium Using Pulsed Current

Maico T. da Cunha; Universidade Estadual do Centro Oeste; Julian Johann; Universidade Estadual do Centro Oeste; Pedro Luiz G. C. Furumura; Universidade Estadual do Centro Oeste; Paulo Rogério P. Rodrigues; Universidade Estadual do Centro Oeste
Fonte: Revista Virtual de Química Publicador: Revista Virtual de Química
Tipo: ; Formato: application/pdf
Publicado em 28/02/2014 PT
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A eletrodeposição de cobre e suas ligas a partir de soluções alcalinas cianetadas é muito utilizada industrialmente para obtenção de camadas de cobre de alta qualidade sobre substratos ferrosos e não ferrosos. Novos processos de eletrodeposição do cobre, isentos de íons cianeto, têm sido uma alternativa às novas exigências ambientais. Este trabalho tem como objetivo principal estudar a eletrodeposição de íons de cobre a partir de um banho alcalino isento de íon cianeto, estabilizado por dois diferentes agentes complexantes para os íons de Cu2+, a etilenodiamina e o citrato de sódio. Neste estudo foram empregadas as seguintes técnicas: corrente pulsada, microbalança de quartzo, polarizações potenciodinâmica e galvanostática, convecção forçada empregando eletrodo de disco rotatório, microscopias óptica e eletrônica de varredura. Relacionou-se a influência da modulação de corrente através de medidas de microbalança de quartzo. Os resultados mostram que a aplicação de corrente pulsada, nos meios de citrato de sódio e etilenodiamina, revelaram boa eficiência quanto corrente catódica e à morfologia dos depósitos de cobre. DOI: 10.5935/1984-6835.20140019; The electrodeposition of copper and its alloys from cyanide alkaline solutions is widely employed in industry to obtain high quality copper layers on ferrous and non-ferrous metals substrates. New processes of copper electroplating...